TF-668 高整平酸銅光亮劑(進(jìn)口分裝)
一、特點(diǎn):(超強(qiáng)走位、高填平、快出光)
1、在廣闊的電流密度范圍內(nèi),可快速獲得鏡面光亮及特高整平性的鍍層,且不產(chǎn)生針孔、麻點(diǎn)及發(fā)霧現(xiàn)象;
2、鍍層延展性能良好,內(nèi)應(yīng)力低,對鎳層的結(jié)合力好;
3、鍍層清澈光亮,不產(chǎn)生白霧,是鋅合金電鍍、鋼鐵零件電鍍、塑膠電鍍、電鍍青銅最理想的打底鍍層。
二、使用方法:
標(biāo)準(zhǔn)鍍液組成
成 分 | 標(biāo) 準(zhǔn) | 濃 度 范 圍 | |
硫酸銅CuSO4.5H2O (g/L) | 225 | 180—240 | |
硫酸(H2SO4) | 重量 (g/L) | 60 | 45—90 |
容量 (ml/L) | 30 | 25—50 | |
氯離子 | Cl- (mg /L) | 80 | 80—100 |
濃鹽酸調(diào)配 (ml/L) | 0.25 | 0.1—0.4 | |
TF-668A (ml/L) | 0.8 | 0.4—1.2 | |
TF-668B (ml/L) | 0.2 | 0.2—0.4 | |
TF-668MU (ml/L) | 10 | 8—12 |
使用條件
項(xiàng) 目 | 范 圍.條 件 |
陰極電流密度 (A/dm2) 陽極電流密度 (A/dm2) 浴 電 壓 ( V ) 浴 溫 (℃) 攪 拌 過 濾 陽 極 陽 極 袋 | 1—6 1—3 2—6 15—30 空氣攪拌 不含活性炭的連續(xù)過濾 含磷銅 需要 |
三、添加劑及氯離子的功能及控制
★TF—668A(開缸及補(bǔ)給劑):
此光亮劑用作新配鍍液及日常生產(chǎn)的補(bǔ)充,其主要作用在低電流區(qū)有優(yōu)良的光亮度和整平性(低電流區(qū)調(diào)節(jié)劑)。按照鍍層的光亮度和整平性及操作溫度其消耗量不同,為80毫升/千安·小時。實(shí)際用量將根據(jù)各廠操作條件來確定。(添加劑的消耗量隨鍍液溫度升高而遞增)
★TF—668B(開缸及補(bǔ)給劑):
此光亮劑用作新配鍍液及日常生產(chǎn)的補(bǔ)充,其主要作用能在高電流區(qū)有優(yōu)良的光亮度和整平性,擴(kuò)大電流密度范圍,防止鍍層燒焦(高電流區(qū)調(diào)節(jié)劑)。按照鍍層的光亮度和整平性及操作溫度其消耗量不同,為80毫升/千安·小時。實(shí)際用量將根據(jù)各廠操作條件來確定。(添加劑的消耗量隨鍍液溫度升高而遞增)。
★TF—668MU(開缸劑):
只有在鍍液開缸時及活性炭大處理后及具體生產(chǎn)中鍍液帶出損失時使用,開缸劑不足時,會令鍍層的高中電流密度區(qū)產(chǎn)生條紋狀沉積;開缸劑過多可能對鍍層結(jié)合力產(chǎn)生影響。TF—668MU可以取代部份TF—668B用量,使鍍液具有更好的分散性能。消耗量為80毫升/千安·小時。實(shí)際用量將根據(jù)各廠操作條件來確定。(添加劑的消耗量隨鍍液溫度升高而遞增)。
★氯離子:
過多過少的氯離子都會影響鍍層的光澤和整平性。佳濃度范圍為0.08—0.1克/升。請先分析當(dāng)?shù)厮|(zhì)中的氯離子含量,再調(diào)整到佳范圍內(nèi)。必要時要用純水配制。當(dāng)氯離子過少時會出現(xiàn)樹枝條紋,過多時影響低電流區(qū)光亮度及整平性。
除氯方法:
盡量使用純度較高的分析級鋅粉。
添加鋅粉時會產(chǎn)生氣體氫,請注意防火及使用排氣設(shè)施。
(1) 液移至預(yù)備槽;
(2) 液溫保持在30℃左右;
(3)加入鋅粉的量是根據(jù)所想除去氯的量而定,鋅粉用水調(diào)至糊狀邊攪拌邊加入,鋅粉1g可以去除約50ppm氯離子;
(4)攪拌30分鐘;
(5)加入5g/L活性炭,攪拌3小時;
(6)鍍液靜止后,通過過濾器返回至原來鍍槽。
四、附錄
不良對策參照表
不良原因 | 燒焦 | 低電流區(qū)不亮 | 整平性光亮不足 | 麻點(diǎn) | 鍍層粗糙 | 漏鍍 | 結(jié)合力差 |
TF—668B不足 | O | O | |||||
TF—668A不足 | O | O | O | O | |||
TF—668MU不足 | O | ||||||
TF—668B過多 | O | O | O | ||||
TF—668A過多 | O | O | O | ||||
TF—668MU過多 | O | O | |||||
基礎(chǔ)液濃度過低 | O | ||||||
鍍液污染 | O | O | O | O | O | ||
攪拌不正確 | O | O | |||||
氯離子過多 | O | O | |||||
氯離子過少 | O | O | |||||
槽液溫度過低 | O | ||||||
槽液溫度過高 | O | ||||||
固體雜質(zhì) | O | ||||||
清洗水質(zhì)污染 | O | ||||||
酸性活化不良 | O |
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